专利详情
Patent Detail
专利类别:发明 | 申请号: CN201210510007.9 | 申请日期:2012-12-03 |
公开日期:2017-03-15 | 专利名称: 一种制备像素化的闪烁材料膜的方法 | 发明人:刘光辉,刘茜,周真真,魏钦华,杨华 |
法律状态:授权 | 申请人:中国科学院上海硅酸盐研究所 | 公开号:CN103849832B |
主分类号:C23C14/04(20060101) | 优先权号: | 行业分类:化学;冶金 |
优先权日: | 专利权人:中国科学院上海硅酸盐研究所 |
专利附图
Patent Picture
摘 要
Summary
本发明提供了一种制备像素化的闪烁材料膜的方法,所述方法包括以下步骤:将掩模版叠加到基板上,所述掩模版中包括多个贯穿该掩模版的开口;通过所述掩模版的开口在所述基板上沉积闪烁材料,从而在所述基板上形成多个分隔开的所述闪烁材料的像素单元。本发明还提供了由该方法制得的包括像素化的闪烁材料膜的组件。
交易流程
Transaction Process
过户资料
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具体描述
Specific Description