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[专利] 一种光线投射多核并行体绘制方法
出售价格: 面议

专利分类:发明

专利编号:CN200810142058.4

发明人:黄波,刘思源,郑倩,姜志阳,文高进,冯圣中,樊建平

持有人:深圳先进技术研究院

  • 专利附图
  • 摘要
  • 交易流程
  • 过户材料
  • 具体描述

专利详情

Patent Detail

专利类别:发明 申请号: CN200810142058.4 申请日期:2008-08-20
公开日期:2012-06-06 专利名称: 一种光线投射多核并行体绘制方法 发明人:黄波,刘思源,郑倩,姜志阳,文高进,冯圣中,樊建平
法律状态:授权 申请人:深圳先进技术研究院 公开号:CN101527031B
主分类号:G06T1/20(20060101) 优先权号: 行业分类:物理
优先权日: 专利权人:深圳先进技术研究院

专利附图

Patent Picture

摘  要

Summary

本发明公开了一种基于Cell B.E.的光线投射并行体绘制方法,其包括以下步骤:对三维体数据的读取和预处理:通过控制处理单元把屏幕图像空间按行进行任务划分,依次分配给协处理器单元进程;三维场景和绘制属性的设置;对屏幕上的每个像素进行绘制;对结果图像进行显示。本发明所提供的一种基于Cell B.E.的光线投射并行体绘制方法,首先采用了PPE和SPE任务划分的改进,然后,采用了SPE程序的性能优化:通过对SPE绘制流程中的相交测试、坐标变换、明暗计算和颜色合成等最主要的任务进行SIMD化的操作,并采用“渗透”技术有效地解决了光线投射法中不规则访存问题,最终提高了程序的性能。

交易流程

Transaction Process

过户资料

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具体描述

Specific Description

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